技術文章
半導體晶圓制造過程中,超純水的純度要求極-致嚴苛,水中痕量有機碳殘留會吸附在晶圓表面,影響光刻、蝕刻等關鍵工藝,直接導致芯片良率下降。我們的TOC分析儀(電導率法),以ppb級高靈敏度檢測能力,專為半導體超純水監測打造,精準捕捉痕量有機碳,為半導體精密制造保駕護航。

極-致靈敏度,捕捉痕量隱患。半導體超純水對TOC含量要求極-高,通常需控制在1ppb以下。我們的分析儀檢測范圍覆蓋0.001mg/L~1.600mg/L(1ppb~1600ppb),示值誤差僅±5%,重復性RSD≤2%,能精準捕捉超純水中的痕量有機碳,遠超行業監測標準。采用雙波長高效氧化技術,185nm+254nm紫外燈產生強氧化性自由基,確保有機物徹-底氧化,結合差值電導率檢測,徹-底消除無機碳干擾,每一組數據都精準可靠。

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